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單晶氧化退火爐

主要用途:單晶硅制造過程中氧化退火,改善晶體質量、消除缺陷、優化電學性能,確保單晶硅高純度及均勻性

  • 產品詳情

應用場景:

直拉單晶(CZ法)制造

晶體生長后熱處理氧沉淀控制摻雜均勻性優化

區熔單晶(FZ法)制造

缺陷修復氧含量調節表面鈍化

大尺寸單晶硅片加工

晶圓預處理表面氧化層生長

高質量單晶研發

新型單晶材料的氧化退火工藝研究大尺寸單晶硅的性能優化與缺陷控制

樣片檢測

硅單晶片缺陷檢測

單晶氧化退火爐.png

單晶退火爐 -摳圖大圖.jpg

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